集成非线性光子学结合了非线性光学和最先进的光子集成技术，在芯片集成技术中扮演着关键角色，包括光频梳、分子光谱学和量子光学。具有良好性能的光学材料是推动具有带宽、效率和灵活性的集成光子器件在大规模芯片级制造中的基础。在这项工作中，展示了一种新开发的硫族玻璃Ge25Sb10S65（GeSbS），用于非线性光子集成和耗散孤子微梳的生成。GeSbS具有宽透明范围（0.5-10 µm）、强非线性（1.3 × 10−18 m2 W−1）和低热折射率系数（3.1 × 10−5 K−1），并且与互补金属氧化物半导体（CMOS）制造兼容。在这个平台上，实现了具有平均内在质量（Q）因子约为1.97 × 106的芯片集成光学微谐振器，并进行了光刻控制的色散工程。特别是，在一个微谐振器的分离的基本偏振模式族中，生成了带宽为240 nm（约1440-1680 nm）的亮孤子微梳和带宽为80 nm（约1510-1590 nm）的暗脉冲梳。孤子微梳操作功率为十毫瓦级，有助于单片集成光子电路。这些结果为集成非线性光子学提供了一种潜在的材料平台，用于在可见光和红外区域中实现高度紧凑和高强度的非线性互动